Исследование энергетической характеристики плазмы источника ионов для уменьшения остаточных напряжений в тонких пленках

Московский Государственный Технический Университет им. Н.Э.Баумана (МГТУ им. Н.Э.Баумана)

11 - Электронные технологии в машиностроении

Аспирант (1 год) (аспирантура)

Сидорова Светлана Владимировна (Кандидат наук, МГТУ им Н.Э Баумана, кафедра "Электронные технологии в машиностроении")

Описаны причины появления остаточных напряжений в тонкопленочных многослойных покрытиях. Приведены недостатки наличия остаточных напряжений. Предложены решения для уменьшения остаточных напряжений. Обоснована актуальность применения источника ионов. Получены количественные значения потенциала пространства электронной и ионной частей, определены концентрации и температуры ионов и электронов.

Купцов А. Д., Егорова С. И., Фельде А. А., Пименов И. Е. Исследование энергетической характеристики плазмы источника ионов для уменьшения остаточных напряжений в тонких пленках. [Электронный ресурс] // Всероссийская научно-техническая конференция «Студенческая научная весна: Машиностроительные технологии»: материалы конференции, 3 – 7 апреля, 2023, Москва, МГТУ им. Н.Э.Баумана. – М.: ООО «КванторФорм», 2023.– URL: studvesna.ru?go=articles&id=3780 (дата обращения: 27.07.2024)